精密平面抛光机误差模型研究
作者:管理员    发布于:2018-12-06 20:09:54    文字:【】【】【
摘要:精密平面抛光机误差模型研究

      大口径平面光学元件作为空间光学系统、极紫外光刻系统、大型激光聚变系统等现代复杂光学系统的关键器件,其超精密制造技术是目前国际光学加工领域的前沿研究方向之一。为满足加工表面的匀滑性和完整性,并提高加工效率,该类元件最理想的加工方式是全口径抛光,常见平面抛光机床有单轴抛光机、双面抛光机、大型环抛机等。目前针对全口径抛光加工精度的大量研究一切主要集中于抛光模材料、抛光模修整方法、抛光压力或速度、运动轨迹等工艺因素方面,对于机床机械精度对元件加工精度影响的研究则相对较少。这主要是由于传统的抛光机床本身为非精密机床,机械精度较低(通常为数十微米量级甚至更大),元件加工精度的控制主要强调工艺经验的积累和总结。然而,随着各类光学系统对平面元件的加工精度及效率要求越来越高,为了提高工件加工的确定性及可靠性,采用高精度数控加工机床替代传统光学设备已是国际先进光学制造技术领域发展的必然趋势。
     与传统光学加工设备不同,新型超精密数控光学加工机床主要基于机械精度传递和工艺参数数字化控制,因此元件的加工精度与机床本身的机械精度密切相关。本文详细研究了大口径平面光学元件精密平面抛光机误差对于元件加工精度的影响规律,确定了影响元件精度的机床敏感误差源,并建立了基于多体系统理论的机床精度模型,对于改进机床设计、合理分配部件精度指标及优化元件加工工艺具有重要意义。

结语



   分析了精密平面抛光机的加工原理,并推导了修整器几何参数对元件加工精度的影响关系。分析表明,修整器轴线偏角a对抛光盘球面半径及光学元件面形精度的影响最为显著。以KPJ1100型平面快抛机为例,在对机床几何误差源进行分析的基础上,基于多体高精密微铳削再生颤振稳定域影响机制研究.
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脚注信息
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