欧特〔〕曾介绍过用聚四氛乙烯抛光盘加工极平光学平面的技术。我们对此项技术的进一步试验表明,可以做若干改进。本文介绍其最重要的改进。欧特抛光圆形平板零件的方法是把零件放在环形分离器的孔内进行加工。抛光机摆杆带动分离器摆动,其摆程相对于抛尤盘币言是个向心的弧线。被加工零件在分离器圆孔内自由浮动。这就要求抛光盘的直径要比被加工零件的直径大三倍左右。如此大的抛光盘是不必要的。如果在每一个摆程内,聚四氛乙烯涂层磨损是均匀的,那就不必使用分离器,而抛光盘略大于被抛光零件即可。我们曾在中毫米直径的抛光盘上成功的抛光了小毫米直径的融石英玻璃平板。但是,这种比例并不理想,比较适用的是抛尤盘直径比被抛光零件大,其抛光质量与采用防护环和大的抛光盘抛光质量相同。为了进行上述抛尤,我们研制了图沂示的专用支架。支架上端的六个径向槽用作可调拨杆的导向槽,拨杆用于夹持不同尺寸和形状的尤学元件。拨杆末端与光学零件接触的地方装有聚四氛乙烯环套。为使被抛尤零件能够自由放置在抛光盘上,拨杆与被抛光零件之间应调整出适当的间隙,拨杆与彼加工件的点距抛光盘表面的高度很重要,应等于被抛光零件厚度的三分之一左右,借劝于一个特殊抽承代替一般的销打,将该支架固定在抛光盘上,从而使支架自由的铃动。利用这一支架,不仅可抛光圆形零件,亦可抛光其它形状的零件。我们曾抛光了一块一矩形零件,其平面度边缘角上毫米处达到毫微米。图表示为某一边缘角平面的多光束干涉条纹。对于小直径的零件如小毫米以内,最好泛用防护环。

我们最初选用低膨胀硼一硅玻璃或作抛光盘基底,这种抛光盘通常涂有整平的聚四氛乙烯涂层和防护环,实践证明其抛光效果是不能令人满意的。其温度变形很大。目前我们用一一,工业级做抛光盘和整平板,而用融石英玻璃制造分离器。现在我们省略了早先在抛光盘上所用叼的为翻七径向切削。理想的整平盘是很平的,如果整平盘是精密的球面或接近平面,那么通过控制抛光机的摆程,即可制造一个平的抛光盘。可直接用干涉法检验抛光盘平面的形状。为了获得这种抛光很低的速度,我们设计制造了图所示的专用机构,主轴和抛光臂上的两个偏心轮分别用单独的变速电机和变速器驱动。为了减少振动,将电机和传动装置安装在与抛光机主机架分离的单独的小架上。抛光盘的标准转速为一转分,之偏心枪转动速度为一转分,另一偏心伦转速为一转分。