昨天看到一篇文章，关于平面快速抛光机床的的误差对元件加工精度的影响规律（详见本文底部附件），有所启发，今天来讨论一下环抛机床误差与元件加工精度的关系，我只提出几个问题。

1、是否只有绝对平的胶盘才能加工出高精度元件？

咋一看，好像很正确，但是这是一种绝对的理想主义。元件发热变形、沥青胶层受力形变、校正盘的作用、校正盘自身磨削、元件受力变形等等很多的因素被剔除了。

2、那有没有一种情况，环抛机大盘精度不太好，也能做出高精度元件？

答案是肯定的，如果大家对国外机床有所了解和使用，会遇到这种情况。核心是机床自身的一些小闭环系统能够补偿元件精度，这些小系统及参数反馈控制技术，才是真正的技术所在，我现在也在致力于此。

3、环抛机机床精度越高，元件精度也能越高？

   答案是当然肯定的。

4、那么环抛机机床精度提高是否是元件精度提高的唯一途径？

   答案是否定的。举个例子，光刻机刻出来的线宽是3纳米，难道光学元件的精度能达到甚至高于3纳米？工艺在光学加工中的重要性可以弥补机床精度的不足。