相比于平面环抛，双面研磨抛光技术在平行度要求较高，长宽比较大或薄元件冷加工方面具有优势。而且它克服了民用双面抛光机加工完成的平面精度较低，加工元件的尺寸范围小，扩展性能差等缺点，能够很好地满足现代光学的要求。

我司研发的这款DM光学双面抛光机在主要性能上采用桥架系统，拥有高精度主盘和上盘，上盘具有偏心设置和摆动功能，主盘外围设置刮盘刷。该设备具备磨料循环系统，设计了合理的分离器。此外，设备采用触摸式人机界面进行操作，PLC系统对驱动部件进行闭环精密控制，提高了设备的自动化程度。

在系统特性方面。发热量小，降低了设备散发热量对车间环境温度的影响。整体结构合理紧凑，部件设计简练实用，减少了占地面积。在安全性、维护性和操作性上也表现可嘉。